Aktualnosci
Autor: System Publikacja: 15.10.2019
Poprzednia, pierwsza edycja konkursu z 2018 roku, która miała miejsce w Beijing University of Technology w Chinach, cieszyła się dużym zainteresowaniem uczestników i okazała się być niezwykle wartościową platformą do promowania dialogu między uniwersytetami w Chinach i w Polsce oraz partnerami gospodarczymi. Obecna edycja Art & Design Competition pozwoli na zacieśnienie takiej współpracy.
Konkurs adresowany jest do studentów i pracowników uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim. Uczestnicy konkursu składają jedną pracę konkursową w wybranej przez siebie kategorii tematyczno-warsztatowej.
Tematem konkursu „Mind & Senses in Art & Design” są indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji.
Prace konkursowe należy składać na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej, ul. Akademicka 7 w Gliwicach do 15 grudnia 2019 r. Osobami uprawnionymi do kontaktu w sprawie konkursu na Wydziale Architektury są:
dr hab. inż. arch. Natalia Bąba-Ciosek, prof. PŚ
dr hab. inż. arch. Magdalena Żmudzińska-Nowak, prof. PŚ
Szczegółowe informacje dotyczące konkursu, regulamin oraz formularz zgłoszeniowy dostępny jest na stronie https://www.polsl.pl/en/Pages/artanddesign.aspx
Polsko-chiński konkurs Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design”
Rozpoczęło się przyjmowanie prac do polsko-chińskiego konkursu Art & Design Competition 2020: „Mind & Senses in Art & Design”, organizowanego w ramach Chińsko – Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC), którego gospodarzem w tym roku będzie Politechnika Śląska we współpracy z Uniwersytetem Śląskim.
Poprzednia, pierwsza edycja konkursu z 2018 roku, która miała miejsce w Beijing University of Technology w Chinach, cieszyła się dużym zainteresowaniem uczestników i okazała się być niezwykle wartościową platformą do promowania dialogu między uniwersytetami w Chinach i w Polsce oraz partnerami gospodarczymi. Obecna edycja Art & Design Competition pozwoli na zacieśnienie takiej współpracy.
Konkurs adresowany jest do studentów i pracowników uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim. Uczestnicy konkursu składają jedną pracę konkursową w wybranej przez siebie kategorii tematyczno-warsztatowej.
Tematem konkursu „Mind & Senses in Art & Design” są indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji.
Prace konkursowe należy składać na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej, ul. Akademicka 7 w Gliwicach do 15 grudnia 2019 r. Osobami uprawnionymi do kontaktu w sprawie konkursu na Wydziale Architektury są:
dr hab. inż. arch. Natalia Bąba-Ciosek, prof. PŚ
dr hab. inż. arch. Magdalena Żmudzińska-Nowak, prof. PŚ
Szczegółowe informacje dotyczące konkursu, regulamin oraz formularz zgłoszeniowy dostępny jest na stronie https://www.polsl.pl/en/Pages/artanddesign.aspx
Data aktualności
Tytuł
07.01.2023
03.11.2022
