Start - Aktualności
Aktualności
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/7056/5dc58bd2-79cb-48a5-af6e-c1af267871b6.jpg)
Autor: System Publikacja: 04.12.2019
Wśród wyróżnionych znalazły się: CIECH Sarzyna SA, Instytut Badań i Rozwoju Motoryzacji BOSMAL sp. z o.o., Tech Solutions Henryk Świtowski, Lot Aircraft Maintenance Services sp. z o.o., Cebrio Grzegorz Pelczar, New Era Materials sp. z o.o., Politechnika Warszawska, Politechnika Śląska, Politechnika Wrocławska, Linetech Aircraft Maintenance SA, Śląskie Centrum Naukowo Technologiczne Przemysłu Lotniczego sp. z o.o., CAMDivision sp. z o.o.
Gratulujemy wszystkim wyróżnionym!
Podziękowania dla Politechniki Śląskiej
Podczas spotkania partnerów Polskiego Klastra Technologii Kompozytowych, które odbyło się 21 listopada w Zawierciu, przedstawicielka Politechniki Śląskiej i członek Rady Klastra, prof. Anna Dolata, odebrała dyplom-podziękowanie za dotychczasową aktywność w działaniach na rzecz rozwoju Klastra oraz czynny udział w wydarzeniach organizowanych przez PKTK takich jak organizacja stoisk i udział w targach oraz warsztatach.
Wśród wyróżnionych znalazły się: CIECH Sarzyna SA, Instytut Badań i Rozwoju Motoryzacji BOSMAL sp. z o.o., Tech Solutions Henryk Świtowski, Lot Aircraft Maintenance Services sp. z o.o., Cebrio Grzegorz Pelczar, New Era Materials sp. z o.o., Politechnika Warszawska, Politechnika Śląska, Politechnika Wrocławska, Linetech Aircraft Maintenance SA, Śląskie Centrum Naukowo Technologiczne Przemysłu Lotniczego sp. z o.o., CAMDivision sp. z o.o.
Gratulujemy wszystkim wyróżnionym!
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/6668/0adc5401-16c5-4076-b5c7-b2a6b8b0b59b.jpg)
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/6671/7d39c835-0a48-4393-926f-a60d255df8db.png)
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/6675/64533b18-66ee-4564-802c-6468c072558c.jpg)
Więcej aktualności Mniej aktualności