Start - Aktualności
Aktualności
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/7056/5dc58bd2-79cb-48a5-af6e-c1af267871b6.jpg)
Autor: System Publikacja: 04.12.2019
Wśród wyróżnionych znalazły się: CIECH Sarzyna SA, Instytut Badań i Rozwoju Motoryzacji BOSMAL sp. z o.o., Tech Solutions Henryk Świtowski, Lot Aircraft Maintenance Services sp. z o.o., Cebrio Grzegorz Pelczar, New Era Materials sp. z o.o., Politechnika Warszawska, Politechnika Śląska, Politechnika Wrocławska, Linetech Aircraft Maintenance SA, Śląskie Centrum Naukowo Technologiczne Przemysłu Lotniczego sp. z o.o., CAMDivision sp. z o.o.
Gratulujemy wszystkim wyróżnionym!
Podziękowania dla Politechniki Śląskiej
Podczas spotkania partnerów Polskiego Klastra Technologii Kompozytowych, które odbyło się 21 listopada w Zawierciu, przedstawicielka Politechniki Śląskiej i członek Rady Klastra, prof. Anna Dolata, odebrała dyplom-podziękowanie za dotychczasową aktywność w działaniach na rzecz rozwoju Klastra oraz czynny udział w wydarzeniach organizowanych przez PKTK takich jak organizacja stoisk i udział w targach oraz warsztatach.
Wśród wyróżnionych znalazły się: CIECH Sarzyna SA, Instytut Badań i Rozwoju Motoryzacji BOSMAL sp. z o.o., Tech Solutions Henryk Świtowski, Lot Aircraft Maintenance Services sp. z o.o., Cebrio Grzegorz Pelczar, New Era Materials sp. z o.o., Politechnika Warszawska, Politechnika Śląska, Politechnika Wrocławska, Linetech Aircraft Maintenance SA, Śląskie Centrum Naukowo Technologiczne Przemysłu Lotniczego sp. z o.o., CAMDivision sp. z o.o.
Gratulujemy wszystkim wyróżnionym!
![photo](/wp-content/themes/politechnika-v2/assets/images/cover-images/270x212.png)
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/6612/132aea97-e0ab-46de-8fa2-226919d6f069.png)
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/6616/97073ace-4050-4394-80df-b80db20e9c37.jpg)
![photo](/wp-content/uploads/api-cache-images/6619/25f48401-c8ed-44ac-b7eb-65ffb7d3b6d6.png)
Więcej aktualności Mniej aktualności