A A+ A++
photo
Author: System Published at: 17.12.2019

Polsko-chiński konkurs Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design"

Zapraszamy do udziału w prestiżowym międzynarodowym konkursie artystyczno-projektowym w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC). Jego uczestnikami mogą być studenci oraz pracownicy uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim.

Tematem konkursu są „Indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji”.

TERMIN NADSYŁANIA PRAC - 30 stycznia 2020 r.
 
Szczegółowe informacje oraz regulamin dostępne są TUTAJ  
 
ORGANIZATORZY: 
Politechnika Śląska
Uniwersytet Śląski
Beijing University of Technology
Chongqing Jiaotong University
 
ORGANIZATOR MERYTORYCZNY:
Wydział Architektury Politechniki Śląskiej
Share:fbtwitter
photo

CPN dla pokoleń

System
2020-01-21 10:23:06
21.01.2020
photo

Zarządzaj projektem zdalnie – GeCCo – Global eCollaboration Competition 2019/2020

System
2020-01-20 10:12:16
20.01.2020
photo

Konferencja Rozwoju Biznesu CEE 2020

System
2020-01-16 13:29:38
16.01.2020
photo

Prace dyplomantek Wydziału Architektury walczą o tytuł najlepszego projektu

System
2020-01-16 13:05:38
16.01.2020
39 from 911

Show more

Events

Show all

© Silesian University of Technology

General information clause on the processing of personal data by the Silesian University of Technology

The authors - the organizational units in which the information materials were produced, are fully responsible for the correctness, up-to-date and legal compliance with the provisions of the law. Hosted by: IT Center of the Silesian University of Technology ()

Data availability statement

„E-Politechnika Śląska - utworzenie platformy elektronicznych usług publicznych Politechniki Śląskiej”

Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie