A A+ A++
photo
Author: System Published at: 17.12.2013

Rysunek odręczny w kształceniu architektonicznym i urbanistycznym

Wystawa „Rysunek odręczny w kształceniu architektonicznym i urbanistycznym” odbędzie się w holu Wydziału Architektury Politechniki Śląskiej w Gliwicach przy ul. Akademickiej 7 we wtorek 17 grudnia o godz. 15:30. Wstęp wolny. Zapraszamy.
 
Wystawa „Rysunek odręczny w kształceniu architektonicznym i urbanistycznym” powstała w oparciu o materiały z projektu prowadzonego przez Katedrę Budownictwa i Architektury Wydziału Budownictwa Politechniki Opolskiej w ramach programu LLP Erasmus przy współpracy z Wydziałem Architektury Politechniki Śląskiej. Opracowanie wystawy: dr inż. arch. Michał Stangel i dr inż. arch. Tomasz Bradecki z Politechniki Śląskiej, opracowanie graficzne prac powstałych w trakcie programu: mgr inż. arch. Anna Szczegielniak z Politechniki Opolskiej.
Share:fbtwitter
photo

Nowe programy – zatrudnianie i zapraszanie wybitnych naukowców. Każdy może pomóc znaleźć odpowiednich kandydatów!

System
2020-10-20 12:56:29
20.10.2020
photo

Dr inż. Jakub Nalepa stypendystą Nagród Naukowych „Polityki”

System
2020-10-20 12:55:38
20.10.2020
photo

Zmarł prof. Piotr Kapias

System
2020-10-20 12:46:57
20.10.2020
photo

Wielki sukces Politechniki Śląskiej w Konkursie "Marka-Śląskie”

System
2020-10-20 10:38:05
20.10.2020
14 from 911

Show more

Events

Show all

© Silesian University of Technology

General information clause on the processing of personal data by the Silesian University of Technology

The authors - the organizational units in which the information materials were produced, are fully responsible for the correctness, up-to-date and legal compliance with the provisions of the law. Hosted by: IT Center of the Silesian University of Technology ()

Data availability statement

„E-Politechnika Śląska - utworzenie platformy elektronicznych usług publicznych Politechniki Śląskiej”

Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie