News

photo
Author: System Published at: 17.12.2019

Polsko-chiński konkurs Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design"

Zapraszamy do udziału w prestiżowym międzynarodowym konkursie artystyczno-projektowym w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC). Jego uczestnikami mogą być studenci oraz pracownicy uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim.

Tematem konkursu są „Indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji”.

TERMIN NADSYŁANIA PRAC - 30 stycznia 2020 r.
 
Szczegółowe informacje oraz regulamin dostępne są TUTAJ  
 
ORGANIZATORZY: 
Politechnika Śląska
Uniwersytet Śląski
Beijing University of Technology
Chongqing Jiaotong University
 
ORGANIZATOR MERYTORYCZNY:
Wydział Architektury Politechniki Śląskiej
Share:fbtwitter
photo

Uczniowie ALO mówią o nauce po ludzku

System
2021-01-27 15:43:46
27.01.2021
photo

Zaproszenie na otwarte spotkanie wspólnoty Politechniki Śląskiej - dane do logowania

System
2021-01-27 07:23:41
27.01.2021
photo

Przy Politechnice Śląskiej powstanie ośrodek badań na rzecz zielonej przyszłości

System
2021-01-26 09:12:28
26.01.2021
photo

Politechnika Śląska gra z WOŚP

System
2021-01-26 09:11:07
26.01.2021
4 from 912

Show more

© Silesian University of Technology

General information clause on the processing of personal data by the Silesian University of Technology

The authors - the organizational units in which the information materials were produced, are fully responsible for the correctness, up-to-date and legal compliance with the provisions of the law. Hosted by: IT Center of the Silesian University of Technology ()

Data availability statement

„E-Politechnika Śląska - utworzenie platformy elektronicznych usług publicznych Politechniki Śląskiej”

Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie