News

photo
Author: System Published at: 17.12.2019

Polsko-chiński konkurs Art & Design Competition 2020 „Mind & Senses in Art & Design"

Zapraszamy do udziału w prestiżowym międzynarodowym konkursie artystyczno-projektowym w ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC). Jego uczestnikami mogą być studenci oraz pracownicy uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim.

Tematem konkursu są „Indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesności codziennego życia krajów partnerskich Konsorcjum, mogące stać się przyczynkiem do wzajemnego poznania i zbliżenia kultur oraz ich promocji”.

TERMIN NADSYŁANIA PRAC - 30 stycznia 2020 r.
 
Szczegółowe informacje oraz regulamin dostępne są TUTAJ  
 
ORGANIZATORZY: 
Politechnika Śląska
Uniwersytet Śląski
Beijing University of Technology
Chongqing Jiaotong University
 
ORGANIZATOR MERYTORYCZNY:
Wydział Architektury Politechniki Śląskiej
Share:fbtwitter
photo

Silesian Greenpower pomaga w produkcji przyłbic

System
2020-04-03 08:42:42
03.04.2020
photo

Politechnika Śląska opracowuje bramę odkażającą dla personelu medycznego

System
2020-04-02 12:31:16
02.04.2020
photo

Wolne miejsca na kursie CatiaV5

System
2020-04-02 09:10:15
02.04.2020
photo

Zdalna edukacja w gliwickim ALO

System
2020-04-02 07:36:30
02.04.2020
31 from 912

Show more

© Silesian University of Technology

General information clause on the processing of personal data by the Silesian University of Technology

The authors - the organizational units in which the information materials were produced, are fully responsible for the correctness, up-to-date and legal compliance with the provisions of the law. Hosted by: IT Center of the Silesian University of Technology ()

Data availability statement

„E-Politechnika Śląska - utworzenie platformy elektronicznych usług publicznych Politechniki Śląskiej”

Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie